一、行業簡介
        半導（dǎo）體、集成電路芯片及封裝、液晶顯（xiǎn）示、高精度線路板、光電（diàn）器件、各（gè）種電子器件、微（wēi）電子工業、大規模、超（chāo）大規模（mó）集（jí）成電路需用大量的（de）純水、高純水、超純水清洗半成品（pǐn）、成品。集成電路的集成度越高，線（xiàn）寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部（bù）把電子級水質技術分（fèn）為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不（bú）同水質。
二、應用範圍
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食（shí）品、造（zào）紙、日化、建材、造漆、蓄電池（chí）、化驗、生物、製藥（yào）、石油、化工（gōng）、鋼鐵（tiě）、玻璃等領域。
2、化工工藝（yì）用水（shuǐ）、化學藥劑、化妝品等用純水（shuǐ）。
3、單晶矽、半導體晶片切割製造、半導體芯（xīn）片、半導體封裝 、引線櫃架、集成電路、液晶顯（xiǎn）示器、導（dǎo）電玻璃、顯像管、線路板、光通（tōng）信、電腦元件、電容器潔淨產品及各種元器（qì）件等生產工藝用純水。
三、工藝簡（jiǎn）介
1、係統模塊（kuài）化設計，共分（fèn）四部分：預處理係統、反滲透係統、EDI係統、終端供水係統（tǒng）。
2、預處理係統主要用（yòng）來去除原水中的懸浮物、濁度、色度、膠體以（yǐ）及部分有（yǒu）機物，保證產水符合反滲透係統的進水水質要求。
3、反滲透係統主要用來（lái）去（qù）除原水中溶解性鹽類物質、細菌、熱源等，保證產水符合EDI係統進水水質要求。
4、EDI係統（tǒng）主要（yào）用來對反滲透產水進行（háng）進一步（bù）脫除溶解性（xìng）的小分子鹽類物質，產水達到電阻率達到（dào）15MΩ.cm以上。
5、終端供水係統主要是用來將合格水輸送至用水點（diǎn），輸送過程中（zhōng）對EDI產生進行最後的離子交換脫鹽，使得產水達到電阻率達到18MΩ.cm以上。
6、整個係統進行集中控製。

四、技術特色（sè）
1、係統模塊化設計（jì），占地麵積小，操作維護方便，安（ān）裝方便快捷，整體美觀。
2、整套係統實現全自動化運行，並且手動與自動自由切換。
3、設（shè）備產水水質穩（wěn）定，運（yùn）行連續穩定。
4、係統工藝先進，無需化學藥品再生，無危害性廢液排（pái）放。
5、係統節水率高，係統回收率在75%以上。
6、關鍵部位采用在線儀表監測，適時數據上傳。
五、設備參數
1、係統回（huí）收率：
        超濾≥90%
        一級反滲透≥75%
        二級反滲透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設備產（chǎn）水符合《電子超純（chún）水（shuǐ）國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半導體工業純水指標。
3、單支（zhī）膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。