一、行業簡介（jiè）
        半導（dǎo）體（tǐ）、集成電路芯片及封裝、液晶顯示（shì）、高精度線路板、光電器件、各種電子（zǐ）器件、微（wēi）電子工業、大規模、超大規（guī）模集成電路需用大量的純水、高純水（shuǐ）、超純（chún）水清洗半成品、成品。集成電路的（de）集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
二、應（yīng）用範圍
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品（pǐn）、造（zào）紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、製藥（yào）、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
2、化（huà）工工藝用水、化學藥劑、化妝品等用純水。
3、單晶矽、半導體晶片切割製造、半導體芯片、半導體封裝 、引（yǐn）線櫃架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔淨產品及各（gè）種元器件等生產（chǎn）工藝用純（chún）水。
三、工藝簡介
1、係統模塊化設計，共分四部分：預處理係統、反滲透係（xì）統、EDI係統（tǒng）、終端供水係統（tǒng）。
2、預處理係統主（zhǔ）要用來去除原水中的懸浮物、濁（zhuó）度、色度、膠體以及部分（fèn）有機物，保證產水符合反滲透係統（tǒng）的進水（shuǐ）水質要求。
3、反滲透係統主要用來去除（chú）原水中溶解性鹽類物質、細菌、熱源等，保證產水符合EDI係統進水水質（zhì）要求。
4、EDI係統主要用來對反（fǎn）滲透產水進行進一步脫除溶解性的小分子鹽類物質，產（chǎn）水達到電阻率（lǜ）達到15MΩ.cm以上。
5、終端供水（shuǐ）係統（tǒng）主要是用來將合格水輸送（sòng）至用（yòng）水點，輸送過程中對EDI產生進行最後（hòu）的離子交換脫鹽，使得產水（shuǐ）達到電阻率達到18MΩ.cm以上。
6、整個係統進行集中控製。

四（sì）、技術特色
1、係統（tǒng）模塊化設計，占地麵積小，操作（zuò）維護方便（biàn），安裝方便快捷，整體美觀。
2、整套係統實現全自動（dòng）化（huà）運行，並且手動與自動自由切換。
3、設備產水（shuǐ）水質穩定，運行連續穩定。
4、係統工藝先進，無需化學藥品再生（shēng），無危害性廢液（yè）排放。
5、係統節水率高（gāo），係統回收率在75%以上。
6、關鍵部（bù）位采用在線儀表監測，適時數據上傳。
五（wǔ）、設備參數（shù）
1、係統回收率：
        超濾≥90%
        一級反滲（shèn）透≥75%
        二級反滲透≥85%
        EDI係統≥90%
2、設備產水符合《電子超純水國家（jiā）標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半導體工業純水指標。
3、單支膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。